3)工業用洗浄

 従来工業用洗浄剤で使用されてきたトリクロロエタン、フロンはオゾン層保護を定めた1992年改正モントリオール議定書によって1996年で全廃とな り、代替洗浄剤への転換が急速に進行しています。 さらにトリクロロエタンからの一時回避として使用されている塩化メチレンなど塩素系溶剤からの転換も求められています。3室型電解システムによって生成される高還元水を使用した洗浄方法に転換されることにより、洗剤を必要としないより安全で効果のある洗浄システムとなるのです。
電解水の産業用洗浄への進出は、すでに液晶画面の洗浄やガラスの表面処理など実用化へと進んでおり、その中でいかに優れたシステムかを検証する時代へと入ろうとしています。3室型電解システムは、従来の電解システムではなし得ない様々な応用が可能なのです。

半導体工場では・・・

半導体シリコンデバイスを代表するDRAM(ダイナミックランダムアクセスメモリー)を例にとると、 最近は1チップ当たり1000万を越える記憶素子を有し、配線の大きさは1µm(1ミリの千分の一)以下です。さらに今後も集積化・微細化が一層進んでいくことは確実です。
このような微細構造の半導体は微細な異物に極めて弱く、最小加工寸法の十分の一程度の微粒子が 欠陥を生み不良品を発生させるのです。そのため半導体製造は極めて清浄なクリーンルームで行われます。従って洗浄は極めて重要な役割を果たし、普通の顕微鏡ではまったく見えないような微粒子を洗浄で除去するわけです。超LSIを製造するための超クリーン化技術は、スーパークリーンルームで超純水や超高純度ガスを使用して行われます。現在の洗浄法の中心は洗浄液を用いるウェット方式洗浄であり、3室型電解システムによる生成水はこれらの洗浄には最適なのです。

redox_ja.gif